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【科技前沿】哈工大在二氧化鈦界面工程方面取得重要進(jìn)展

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2018-08-21  來源:中國(guó)有色網(wǎng)  瀏覽次數(shù):62

      日前,在國(guó)家自然科學(xué)基金、中國(guó)博士后科學(xué)基金會(huì)“香江學(xué)者”計(jì)劃支持下,哈爾濱工業(yè)大學(xué)化工與化學(xué)學(xué)院青年教師于耀光與香港城市大學(xué)張瑞勤教授課題組合作在二氧化鈦界面工程方面取得重要進(jìn)展。研究成果以“活性異原子調(diào)制金紅石型二氧化鈦(110)晶面間隙態(tài)”為題發(fā)表在國(guó)際化學(xué)領(lǐng)域著名期刊《德國(guó)應(yīng)用化學(xué)》(Angew. Chem. Int. Ed.,2018,57,8550 –8554,影響因子12.102)上。于耀光為第一作者,哈工大為第一署名單位。

該論文采用活性氮原子取代金紅石型二氧化鈦(110)晶面的三配位氧,從而在材料電子結(jié)構(gòu)中構(gòu)造出了穿越費(fèi)米能級(jí)的間隙態(tài)。這種間隙態(tài)極大促進(jìn)了光生電子向二氧化鈦導(dǎo)帶的躍遷。論文以光還原六價(jià)鉻為示例反應(yīng),證明了修飾后的二氧化鈦表面表現(xiàn)出了極高的反應(yīng)活性。

 

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